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多工位轴瓦磁控溅射装置【异议或纠错】

档案编号: CQ-228-7442-7911
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第C23C14/35类
授权状态: 已授权
档案内容: 本实用新型是一种多工位轴瓦磁控溅射装置,包括真空室(1)、磁控靶(2)和溅射电源,其特征在于:所述磁控靶(2)至少为两只,另有至少一只反溅靶(4)同所述磁控靶(2)一起,沿真空室(1)中心竖直周向均匀分布在真空室(1)上端,在所述真空室(1)下端中心设有转盘(7),在该转盘(7)上与所述各靶相对处固定有双层结构内壁直径不同的瓦桶(8);所述转盘(7)下表面固定有升降旋转轴(9),该升降旋转轴(9)与升降旋转机构相连。本实用新型能在轴瓦内表面连续镀制两层金属及合金薄膜,而且能在一次开仓时装入多种规格的工件,在真空室内完成整个工艺过程,从而提高生产效率。
附件下载:  (原始资料备查)

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