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一种真空镀膜装置【异议或纠错】

档案编号: CQ-697-0440-5276
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第C23C14/24类
授权状态: 已授权
档案内容: 一种真空镀膜装置,包括壳体,所述壳体内的顶部设有中心轴,所述中心轴下方设有工件放置架,所述工件放置架包括四块放置板,所述放置板呈圆周布置在中心轴上,所述放置板上设有若干放置槽,所述放置槽两侧分别设有滑移槽,所述滑移槽内设有滑移板,所述滑移槽与滑移板活动连接;所述壳体内还设有四块隔板,所述隔板在壳体内呈圆周布置,且与放置板呈交错设置。本实用新型的有益效果是结构设计合理,使用方便,当将工件放入放置槽内,根据尺寸的大小调节放置槽底部的滑移板的位置,这样可以适用不同尺寸的工件,节约资源;蒸发源内可以放置不同的材料,这样就可以实现同时镀膜,隔板避免了蒸发源的相互污染。
附件下载:  (原始资料备查)

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