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单元阵体区域易于紫外线透光的版图布线方法【异议或纠错】

档案编号: CQ-699-9300-5644
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第H01L27/115;H01L27/02;H01L23/50类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明公开了一种单元阵体区域易于紫外线透光的版图布线方法,其包括下列步骤:步骤一,在单元阵体区域内排布底层走线和衬底电位走线且底层走线和衬底电位走线均排布在第三金属线上;步骤二,对第三金属线进行分割,根据实际单元宽度确定线宽;步骤三,移动第三金属线并使得第三金属线占据两个单元宽度;步骤四,调节第三金属线与临近单元的距离,使得第三金属线覆盖的单元与第三金属线临近单元到第三金属线的距离相等。本发明在同时满足大容量闪存芯片底层布线和衬底电位线宽的基础上优化布线,易于紫外线光照穿透第三金属线区域,实现单元擦除动作。
附件下载:  (原始资料备查)

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