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离子源弧室【异议或纠错】

档案编号: CQ-750-6060-1438
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第H01J37/32类
授权状态: 已授权
档案内容: 本实用新型公开了一种离子源弧室,包括盖板及具有容置空间的弧室壁,所述容置空间具有一开口,所述离子源弧室还包括尺寸与所述盖板匹配的垫片,所述垫片与所述盖板重叠后盖设于所述开口处,所述盖板中间部位开设有盖板孔,所述垫片与所述盖板孔相对应的位置开设有垫片孔,所述垫片孔的尺寸小于所述盖板孔的尺寸,使离子束通过所述垫片孔时被所述垫片所遮挡。这种离子源弧室,通过增加了垫片,能够很好的控制弧室孔孔径,从而改善吸取电流、束流稳定性和注入均匀性,当弧室孔孔径发生变化后,更换垫片即可,从而延长了盖板的使用寿命。
附件下载:  (原始资料备查)

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