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专利信息

一种激光二极管制备方法【异议或纠错】

档案编号： CQ-800-6201-5788
档案文号：
专利权人： 申请人 
发布时间： 发布时间 
档案分类： 专利权 
分 类 号： 第H01S5/22;H01S5/32类
授权状态： 已授权
档案内容： 本发明涉及一种激光二极管制备方法,包括步骤如下：(1)在衬底上自下而上依次生长缓冲层、N限制层、N波导层、有源区、P限制层、P波导层、接触层；(2)蚀刻P波导层、接触层,在P限制层上形成脊条；(3)在P限制层上及所述脊条的两侧面生长绝缘层；(4)在绝缘层上生长正电极金属,使正电极金属覆盖脊条的顶面；(5)将步骤(4)生长的外延片倒立,将正电极金属与支持衬底键合；(6)减薄衬底；(7)光刻深沟,形成正电极通道和解理槽区域；(8)蒸镀金属,制备电极图形,采用金属剥离工艺制备,同时形成正电极和负电极。通过上述制备,本发明增加了用于散热和支持用的支持衬底,同时正负电极一次成型。
附件下载：  (原始资料备查)

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