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一种光面爆破系统【异议或纠错】

档案编号: CQ-134-9570-2193
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第F42D1/00;F42D3/04类
授权状态: 已授权
档案内容: 本实用新型公开了一种光面爆破系统,该系统包括有沿着边坡面由外向内逐排设置的主爆孔和光爆孔,所述主爆孔的排列密度小于光爆孔的排列密度,所述主爆孔内采用中部间隔耦合装药结构,所述光爆孔内采用不耦合装药结构,且相邻光爆孔间隔装药,所述光爆孔孔距设置为1.0-1.5m,所述光爆孔排距设置为3-4m。本实用新型通过采用光爆孔和主爆孔的合理间距开孔设置,同时采用耦合装药、不耦合装药结合方式实现了对岩层的有效爆破作用,无论是半孔率还是岩层的平整性都能够达到良好的效果,爆破后对岩层的危害较小,且炸药用量明显下降。
附件下载:  (原始资料备查)

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