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专利信息

一种回旋加速器的多靶位结构【异议或纠错】

档案编号： CQ-457-7875-6180
档案文号：
专利权人： 申请人 
发布时间： 发布时间 
档案分类： 专利权 
分 类 号： 第H05H13/00类
授权状态： 已授权
档案内容： 本实用新型公开了一种回旋加速器的多靶位结构,包括：磁铁机构,所述磁铁机构包括盖板、磁铁本体、励磁线圈和磁轭,且盖板的中部上侧设置有磁铁本体,且磁铁本体的外侧依次设置有励磁线圈和磁轭；碳膜夹持器,所述碳膜夹持器安装在磁铁本体的外端上侧,且碳膜夹持器的两端内部分别设置有第一安装位置和第二安装位置；真空盒,所述真空盒位于碳膜夹持器的下端外侧,且真空盒的前后两端均连接有引出管。该回旋加速器的多靶位结构,便于对圆形安装孔进行安装定位,且便于提高磁场聚焦力,方便粒子的转向和聚焦,以及可获得不同引出路径的束流,同时可在不同路径上安装不同的靶体,增加靶站数量,减少换靶次数,提高开机率。
附件下载：  (原始资料备查)

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