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用于多晶硅生产的三氯氢硅汽化装置的挥发器及控制系统【异议或纠错】

档案编号: CQ-460-4520-8162
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第C30B28/14;C30B29/06;C01B33/03类
授权状态: 已授权
档案内容: 本实用新型涉及多晶硅生产制造领域,是一种用于多晶硅生产过程中控制三 氯氢硅与氢气比率的装置。本实用新型装置也可以应用于合成光学石英玻璃生产 制造领域,在合成光学石英玻璃生产过程中控制四氯化硅与载料气体的比率。所 述汽化装置的挥发器由挥发槽、喷雾管、加热管,支承件和支承座组成。本实用 新型有利于提高还原炉的生产能力和降低还原生产损耗。也有利于多晶硅生产企 业实现自动化和集群化生产控制。
附件下载:  (原始资料备查)

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