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一种高性能烧结钕铁硼的制备方法【异议或纠错】

档案编号: CQ-509-8646-4299
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第H01F41/02;H01F41/18;H01F1/057类
授权状态: 已授权
档案内容: 本申请公开了本发明公开了一种高性能烧结钕铁硼的制备方法。属于钕铁硼永磁体制备技术领域,该方法能够降烧结钕铁硼磁控溅射过程中的成本,并且减少能耗。所述方法包括如下步骤:一:制备低熔点合金靶材;二:在重稀土的金属单质溅射靶材之间,加入一块或多块低熔点合金靶材;三:使用不同厚度烧结钕铁硼工件,采用恒电流模式进行双面镀膜;四:当钕铁硼工件穿越靶材溅射区时,在已经附着于工件表面的重稀土金属膜上通过磁控溅射形成一层低熔点合金膜;五:之后继续溅射重稀土金属膜,形成多层多种金属膜结构;六:将镀膜好的工件进行高温若干小时热处理,然后低温处理后制得。
附件下载:  (原始资料备查)

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