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一种磷化铟晶片及其混合清洗工艺【异议或纠错】

档案编号: CQ-635-4433-7734
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第B08B3/02;B08B3/08;B08B3/10;B08B5/02;B08B7/00;H01L21/02;H01L31/0304;H01L31/18;H01S5/30类
授权状态: 已授权
档案内容: 本申请涉及磷化铟单晶衬底制备的技术领域,涉及一种磷化铟晶片及其混合清洗工艺,所述混合清洗工艺包括如下步骤:1)将抛光后的磷化铟晶片置于氮气与氟化氮的混合气体中,经过电场等离子化,对所述晶片表面进行冲洗;2)将所述晶片在含有H-2O-2的氨水溶液中浸泡晶片;3)将步骤2)得到的晶片浸泡在硫酸溶液中,然后通过去离子水进行洗涤;4)通过有机酸溶液浸泡步骤3)得到的晶片,并震荡处理,并通过去离子水清洗;5)将步骤4)得到的晶片在混合气体中进行干法清洗后,得到成品;步骤5)中的混合气体包括氮气、H-2O-2、HF、HCl、还原性气体;其具有较好的将磷化铟晶片表面进行清洁的优点。
附件下载:  (原始资料备查)

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