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铝合金减摩层软锡相颗粒更细的PVD轴瓦磁控溅射工艺【异议或纠错】

档案编号: CQ-055-1710-3017
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第C23C14/35;C23C14/16;C23C14/54类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明公开了一种铝合金减摩层软锡相颗粒更细的PVD轴瓦磁控溅射工艺, 包括溅前处理、轴瓦装入夹具、抽真空、溅射镍栅层、溅射铝合金减摩层、检 查尺寸及外观、以及后续处理,其关键在于:所述溅射铝合金减摩层的工艺条 件:先制备铝合金靶材,该铝合金靶材中纯锡重量百分含量16%~25%;纯铜重 量百分含量0.3%~3%;纯铝重量百分含量83.7%~72%;PVD轴瓦基体与铝合金 靶材之间的距离为60~120mm;溅射铝合金(AlSnCu)减摩层溅射舱内温度为 40~98℃;工作气体氩气分压为0.1~1.2Pa的范围内;对PVD轴瓦基体通电, PVD轴瓦基体负偏压为-100~-160V。本发明生产的轴瓦铝合金减摩层内弥散的 软锡相颗粒的平均直径小于2.5um,提高了PVD轴瓦在运行过程中的顺应性和磨 合性。
附件下载:  (原始资料备查)

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