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专利信息

一种高精度氮化铝覆铝基板的蚀刻方法【异议或纠错】

档案编号： CQ-069-4378-8228
档案文号：
专利权人： 申请人 
发布时间： 发布时间 
档案分类： 专利权 
分 类 号： 第C23F1/02;H01L21/48;C23F1/20类
授权状态： 已授权
档案内容： 本发明公开了一种高精度氮化铝覆铝基板的蚀刻方法,涉及陶瓷基板制备领域,旨在解决基板图形容易绝缘失效的问题,其技术方案是：步骤一,图形制备：制备蚀刻图形,取氮化铝覆铝母板基板显影得到需要蚀刻的图形边缘间隙；步骤二,超声空化蚀刻：置于超声振动条件下的酸性蚀刻液中进行浸泡式蚀刻,蚀刻后形成图形边缘间隙；步骤三,图形油墨包边印刷：图形印刷,将感光油墨按照图形网框图形对位印刷到基板上；步骤四,水平蚀刻：取步骤三基板,置于水平蚀刻线下进行酸性刻蚀液蚀刻至陶瓷基底,完成图形精密蚀刻。本发明的一种高精度氮化铝覆铝基板的蚀刻方法能够获得高蚀刻因子,平滑的蚀刻图形轮廓。
附件下载：  (原始资料备查)

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