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专利信息

一种超构表面耦合元件的制作方法【异议或纠错】

档案编号： CQ-072-0449-1044
档案文号：
专利权人： 申请人 
发布时间： 发布时间 
档案分类： 专利权 
分 类 号： 第G02B6/136;G02B6/13;G02B6/122类
授权状态： 已授权
档案内容： 本发明实施例涉及光学技术领域,特别涉及一种超构表面耦合元件的制作方法。本发明实施例中提供了一种超构表面耦合元件的制作方法,包括：将所需超构表面耦合元件的相位分布匹配预设结构数据库,获得目标纳米结构单元,根据目标纳米结构单元获得超构表面耦合元件的加工版图,其中,预设结构数据库包括至少两个纳米结构单元和其对应的相位响应分布图；提供一衬底,在衬底上镀一层金属或电介质材料的薄膜；在薄膜上涂布一层光刻胶；根据加工版图,进行光刻、刻蚀和去胶,得到超构表面耦合元件的模板；将模板压印至波导基底,得到超构表面耦合元件。通过本发明制作的超构表面耦合元件能够应用于光波导中,不仅能消色差,且加工难度低。
附件下载：  (原始资料备查)

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