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无机耐磨同质折射率变化减反射薄膜及其制备方法和应用【异议或纠错】

档案编号: CQ-102-9983-6828
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第G02B1/115;C08J7/046;C08J7/06;C08L67/02;C08L1/12;C23C14/06;C23C14/35;C23C14/30;C23C16/455;C23C16/30;C23C28/04;G02B1/14类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明公开了一种无机耐磨同质折射率变化减反射薄膜及其制备方法和应用。减反射薄膜包括基底层,依次叠设在基底层上的HC硬化层、多层减反射层和AF防污层;多层减反射层的材料体系相同且折射率不同。本申请的优点在于:本申请的多层减反射层均是采用同一种材料体系,仅仅通过调整制备工艺,获得同种材料的不同化学计量比,实现折射率的变化,将获得的高低折射率薄膜相互堆叠匹配,达到透明基材上的减反射效果;本申请多层减反射层因为均采用一种材料体系,层与层之间为同质界面,可形成渐变过渡,减少因不同材料堆叠引起的界面晶格失配等问题,更有利于形成界面结合力更好的膜系,从而提升耐弯折性及耐磨性。
附件下载:  (原始资料备查)

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