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专利信息

一种完全非对称结构的激光器外延片及其制备方法【异议或纠错】

档案编号： CQ-104-8213-1406
档案文号：
专利权人： 申请人 
发布时间： 发布时间 
档案分类： 专利权 
分 类 号： 第H01S5/20;H01S5/34类
授权状态： 已授权
档案内容： 本公开公开一种完全非对称结构的激光器外延片及其制备方法,该外延片中：N限制层与P限制层的组分含量非对称、厚度非对称；下波导层、上波导层均呈组分含量渐变特点,厚度非对称特点,并且所述下波导层中掺杂P原子；下垒层与上垒层均呈组分含量渐变特点,厚度非对称特点。这种完全非对称结构的激光器外延片中,N限制层与P限制层的组分含量非对称、厚度非对称设置起到降低串联电阻,减少热产生,将光场向N侧偏移的作用,从而降低空穴对载流子的吸收提升内量子效率。下波导层、上波导层均呈组分含量渐变,厚度非对称设置,实现量子阱的光限制可控。而下垒层与上垒层厚度非对称,组分渐变设计提升了激光器高温下的可靠性,提高了光电转换效率。
附件下载：  (原始资料备查)

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