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专利信息

一种曲线掩膜提取方法、提取装置及存储介质【异议或纠错】

档案编号： CQ-111-2838-4412
档案文号：
专利权人： 申请人 
发布时间： 发布时间 
档案分类： 专利权 
分 类 号： 第G06T7/00;G06T7/13;G06T7/60类
授权状态： 已授权
档案内容： 本发明涉及计算光刻技术领域,具体涉及一种曲线掩膜提取方法、提取装置及存储介质。方法包括以下步骤：输入初始掩膜轮廓图形,并对初始掩膜轮廓图形进行像素化处理得到图形对应的像素点；获取所有像素点的光透过率；选取光透过率在预设范围内的像素点；基于选取的像素点确定初始贝塞尔曲线的阶数及初始控制点的数量；对初始贝塞尔曲线进行迭代优化以得到优化后的贝塞尔曲线；将优化后的贝塞尔曲线作为最终的曲线掩膜输出。本发明提供的曲线掩膜提取方法解决了现有的曲线掩膜ILT计算速度较慢且不能实现其在全芯片的应用的技术问题。本发明的装置及存储介质具有与曲线掩膜提取方法相同的有益效果。
附件下载：  (原始资料备查)

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