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专利信息

一种高透光率光学薄膜制备方法【异议或纠错】

档案编号： CQ-117-4821-8175
档案文号：
专利权人： 申请人 
发布时间： 发布时间 
档案分类： 专利权 
分 类 号： 第C03C17/23类
授权状态： 已授权
档案内容： 一种高透光率光学薄膜制备方法,涉及一种光学薄膜制备方法,所述方法包括以下制备过程：(1)SiO2溶胶制备：在20～30℃下,将正硅酸乙酯(TEOS)加入乙醇中,使TEOS与乙醇的摩尔比为1：20～40,再加入氨水催化剂,使TEOS与氨水的摩尔比为5～100:1；加入去离子水,使去离子水与TEOS的摩尔比为2:1；上述溶液搅拌均匀,在20～30℃下密封静置陈化3～100天；(2)光学薄膜镀制：在20～30℃下,采用提拉法镀制光学增透膜,所得薄膜在110～120℃干燥10～20分钟即可。本发明操作简单、反应条件温和,可以在大面积不规则基片上镀制薄膜；本发明制备的薄膜透光率可达98%以上。
附件下载：  (原始资料备查)

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