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一种挤压磨设备和一种从ITO残靶/废靶中回收ITO粉末的方法【异议或纠错】

档案编号: CQ-118-4793-9783
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第B02C21/00;B02C19/00;B02C17/10;C01G19/00;B82Y30/00;B82Y40/00类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明提供了一种挤压磨设备和一种从ITO残靶/废靶中回收ITO粉末的方法,涉及光电材料循环利用技术领域。本发明提供的挤压磨设备包括进料口、挤压腔、振动装置、振动弹簧、吸粉装置和筛机,挤压腔的腔体内部竖向间隔排布有挤压饼。本发明提供的挤压磨设备结构简单、成本低,能够将颗粒从mm级研磨到μm级。本发明提供了从ITO残靶/废靶中回收ITO粉末的方法,通过表面清洁和酸洗、水淬处理、挤压磨碎处理和振动球磨处理,将ITO残靶/废靶加工成可直接用于ITO靶材制备的粒径为100~500nm的ITO粉末,过程简单、节能环保、成本低,适合大规模生产,回收得到的ITO粉末纯度高达99.99%,废靶回收率大于98%。
附件下载:  (原始资料备查)

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