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基于四叉树快速确定覆铜形状形成拓扑结构的方法及装置【异议或纠错】

档案编号: CQ-119-8255-1092
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第G06F30/392;G06F30/398;G06F16/901;G06F30/18类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明提供基于四叉树快速确定覆铜形状形成拓扑结构的方法及装置;方法包括:根据集成电路每层的版图设计,基于四叉树,得到每层的覆铜形状的相交状态;基于每层的覆铜形状的相交状态,将每层所有相交的覆铜形状形成每层的连接对;基于集成电路的版图设计,集成电路不同层之间通过过孔或金线连接,对于每个过孔或金线,将对应过孔或金线连接的不同层的覆铜形状形成所有连接对;基于所有连接对,对覆铜形状进行网络归并,形成集成电路的拓扑结构。本发明不仅无需预先排除部分不可能相交的覆铜形状,显著提高覆铜形状相交状态的诊断精度,还能够大大简化分析的拓扑结构数量,减少集成电路版图的诊断时间,提高诊断效率。
附件下载:  (原始资料备查)

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