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掩膜版及其制作方法【异议或纠错】

档案编号: CQ-129-8510-0472
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第C23C14/04;C23C14/24;C23C14/58;C23C14/18;C23C14/16;H10K71/16类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明公开了一种掩膜版及其制作方法。其中,制作方法包括在基底上制备第一无机材料层并进行刻蚀,形成包括多个第一图形的第一图形层,形成第二无机材料层,第二无机材料层覆盖基底的侧面,在第一图形层上制备金属层并进行刻蚀,形成包括多个金属图形的金属图形层,且各金属图形位于相邻两个第一图形之间。在金属图形层上制备第三无机材料层,去除第一区域的第二无机材料层并去除第一区域的基底,去除第一图形层和第三无机材料层。其中,通过半导体制程工艺将金属图形层制备于基底上,可减小金属图形层上的通孔尺寸,满足了用户对显示面板的高分辨率需求。
附件下载:  (原始资料备查)

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