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样品仓、光谱检测系统、样品厚度测量方法及装置【异议或纠错】

档案编号: CQ-249-5645-7747
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第G01B11/06类
授权状态: 已授权
档案内容: 本申请适用于计算机技术领域,提出一种样品仓、光谱检测系统、样品厚度测量方法及装置,样品仓包括相对的第一侧壁和第二侧壁;第一侧壁反射太赫兹波形成第一反射信号,透射太赫兹波形成第一透射信号;第二侧壁全反射第二透射信号,形成第二反射信号;待测样品的第一表面和第二表面分别反射第一透射信号形成第三反射信号和第四反射信号。由于太赫兹波在空气中的传播速度、第一侧壁和第二侧壁之间的距离均已知,因此通过样品仓测量出接收到第一反射信号和第三反射信号的时间差,以及接收到第二反射信号和第四反射信号的时间差,可以计算待测样品的厚度,能够实现对未知折射率样品的厚度进行测量。
附件下载:  (原始资料备查)

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