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一种高精密抛光垫修整工具【异议或纠错】

档案编号: CQ-260-0931-6476
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第B24B53/017类
授权状态: 已授权
档案内容: 本申请涉及CMP化学机械研磨抛光技术领域,尤其是涉及一种高精密抛光垫修整工具,其包括圆盘和钻石片,所述钻石片连接在所述圆盘上,所述钻石片的表面上成型有多个凸起;所述钻石片包括主钻、副钻和中心钻,所述中心钻设置有一个且位于所述圆盘的中心处,所述主钻和所述副钻均设置有多个,各个所述主钻呈环形排布,各个所述副钻呈环形排布,所述主钻、所述副钻和所述中心钻呈多环形排布,所述主钻、所述副钻和所述中心钻的厚度相同。本申请具有提高修整器的修整精度,以便于加工过程中产品的精度控制的效果。
附件下载:  (原始资料备查)

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