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有限责任公司(非自然人投资或控股的法人独资) 成立历史第

埚托、坩埚装置和单晶炉【异议或纠错】

档案编号: CQ-279-6394-5775
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第C30B35/00类
授权状态: 已授权
档案内容: 本申请涉及晶体生长技术领域,提供了一种埚托、坩埚装置和单晶炉。埚托包括壳体。壳体具有回转腔,壳体的顶壁具有多个凹槽,凹槽连通壳体的内外两侧。多个凹槽形成多个槽组,多个槽组绕回转腔的轴线间隔设置;每个槽组具有至少一个凹槽。如此,在实际使用的过程中,从坩埚中泄露的物料沿着坩埚的外壁面,流动至壳体的顶壁,并从壳体的顶壁的凹槽进入壳体的回转腔中,实现了对泄露的物料的收集,收集后的物料可继续使用,减少了生产过程中的物料损失,降低生产成本。另外,还能减少泄露的物料影响生产设备的运行,提高生产设备的稳定性和安全性,提高生产效率。
附件下载:  (原始资料备查)

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