实地认证
立信单位
申请人与取证人合影
申请认证人
- 姓名：张湘军
- 职位：办公室主任
- 身份证号：已认证
- 单位电话： 设置为不显示
- 所在部门：办公室
- 员工人数：240人
上门取证人
- 姓名：罗敏敏
- 取证时间：2024-05-20
- 身份证号：已认证
经营场所使用证明
| 实际经营地址 | 长沙市经开区长沙县东六路未来智汇园11栋 | ||
|---|---|---|---|
| 场地所有者 | 湖南智信微电子科技有限公司 | 场地面积 | 8000㎡ |
| 场地期限 | 2024-01-01至2024-12-31 | 场地性质 | 租赁关系 |
实地场景
办公楼
办公楼外貌
前台
办公室一角
办公室一角
研究室
办公室一角
仓库
产品服务
- 半导体石英光掩模基板
- 名称：石英光掩模基板（Blankmask,又称“匀胶铬版”、“光罩基板”) 用途：IC芯片、IGBT芯片设计图形到图形实现到衬底材料上的最佳载体，是半导体光刻制造过程中转移电路图形“底片”的高精密材料。 特性：高感光灵敏度，高分辨率，低缺陷密度，耐磨性刻蚀均匀、重复性好；石英基板平坦度≤1μm；Ra≤0.5nm；缺陷精度：最小检测感度100nm'；最高可满足130nm/110nm集成电路技术节点, 公司目前正研发逐级可满足90-28nm技术节点的光掩模基板。 规格：5″（Q5009）、6″（Q6025）、7″（Q7012/7015/）、9″（Q9012）；
- 泛半导体苏打光掩模基板
- 名称：苏打光掩模基板（Blankmask,又称“匀胶铬版”、“光罩基板”) 用途：是泛半导体微细图形和微纳加工从设计到图形实现的最佳加工载体，是分立器件、LED芯片、发光二极管光掩模及光学母版的最佳材料； 性能：刻蚀均匀、重复性好，最高能满足1um以上线宽制程； 规格：2"、2.5"、3"、4"、5"、6"、7"、8"、9"、14"
- 平板显示用光掩模基板
- 名称：平板显示用光掩模基板，又称大尺寸匀胶铬版 用途：是FPD、PCB、MEMS、LCD 、TP触控、TFT等平板显示器件从图形设计到图形实现的最佳加工载体，是薄膜晶体管液晶显示器（TFT-LCD）掩模版、？包括阵列（Array）掩模版（a-Si/LTPS技术）、？彩色滤光片（CF）掩模版、有源矩阵有机发光二极管显示器（AMOLED）？掩模版、主要为Array掩模版（AMOLED技术）、超扭曲向列型液晶显示器（STN-LCD）掩模版、FineMetalMask用掩模版最佳基材。 性能：公司产品目前能够配套G6.0以下用光掩模版。
- 微纳光学光刻材料
- 名称：微纳光学光刻材料： 用途：用于分划板、光栅尺、光栅马盘、车标元件、仪器标定板的制造；广泛应用于微电子、光学、光电子、纳米器件、生物芯片、光通讯等行业领域；高反射机器视觉用标定板、高对比度机器视觉用标定板、机器人关节码盘等微纳光学元件。 性能：精度高，均匀性好，误差小。能够开发10nm-1000nm的各种微纳薄膜以及组合膜系能力；膜层均匀性能够达到±1%的水平。其中尤其在Cr/Cr0/CrN，Al/合金Al膜(如Al-Cu)，Ag/Au，红外透过ITO，AZO，各种AR光学介质膜等组合膜系。 规格：小于1000mm*1000mm任意尺寸。
- 超精密光学元件
- 名称：超精密光学元件 用途：超精密光学元件主要利用微纳技术，生产微纳结构、特殊光学性能或呈现特殊视觉效果的光学膜和器件，投影光刻机、曝光光学系统、高端精密光学装备及光学检测设备的重要组成部分，以及在AR的光波导应用。 性能：在非常高的光功率密度下，产品的通光表面精度、透过率和抗激光损伤值要求都很高，能对石英，陶瓷，微晶材料等超硬材料的线切割、研磨、抛光、激光切割、激光钻孔、超精密数控机床（1um精度）的加工。 规格：客户定制服务
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