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两喷一烧低温烧成喷涂工艺【异议或纠错】

档案编号: CQ-693-7923-3089
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第C23D11/00;C23D5/04;C03C8/22类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明属于搪瓷产品生产制造技术领域,具体涉及一种两喷一烧低温烧成喷涂工艺。本发明是在搪瓷制品生产中,在金属坯上先涂敷底釉,再涂敷面釉,最后再一次性烧成,从而节约一次烧结工序,可有效的降低企业生产成本,提高搪瓷制品的生产效率,节约流程,同时又能够满足国家节能减排的需要。本发明的底釉及面釉中无需添加粘土和各种电解质,烧成的瓷面光洁致密,气孔率低,杂点、异色明显减少,本发明较为完善地改变了传统工艺中排气方向从非搪瓷面逐渐逸出弥散,很难再形成直达搪瓷面的气体通道,避免了类似针孔、气泡等外观缺陷。
附件下载:  (原始资料备查)

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