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一种用于提纯硅的除磷熔渣【异议或纠错】

档案编号: CQ-750-9720-4618
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第C01B33/037类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明涉及一种用于提纯硅的除磷熔渣,其特征在于:熔渣由脱磷剂、助熔剂和助剂组成,脱磷剂是具有强还原性的钙的化合物或含钙的金属合金CaC2、CaAl、CaSi、CaSiAl、CaSiMg、CaMg中的任一种或两种以上;助熔剂是钙的卤化物,优选为氟化钙,助剂为碱土金属的氧化物。本发明可应用于在真空感应炉上提纯硅去除杂质磷的过程中,在惰性气体保护下进行脱磷的反应。经过脱磷后的硅,磷含量小于1ppm。该熔渣具有强还原性,能提高硅中磷的活度,易于与硅中磷发生化学反应;易于吸收、络合经过脱磷后的反应产物,从而降低脱磷产物的活度,使脱磷反应进行的彻底;具有比金属单质钙低的蒸汽压,利于提高渣的利用率和磷的去除率。
附件下载:  (原始资料备查)

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