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一种抛光垫【异议或纠错】

档案编号: CQ-612-4946-0386
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第B24B37/26类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明公开一种抛光垫,包括研磨层,所述研磨层包括中心区域和设置在中心区域外周的外周区域,定义所述中心区域的半径为R-1,研磨层半径为R,在研磨层半径方向上,所述外周区域的宽度W=R-R-1;所述中心区域的半径与研磨层半径之比满足:0.01≤R-1/R≤0.10;本发明通过对抛光垫的不同研磨区及其沟槽的尺寸及相关参数进行综合设计,使得本发明的抛光垫具有优异的研磨性能,并且具有较长的使用寿命。
附件下载:  (原始资料备查)

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