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专利信息

一种深紫外光刻用底部抗反射涂层及其制备方法和应用【异议或纠错】

档案编号： CQ-059-2908-0230
档案文号：
专利权人： 申请人 
发布时间： 发布时间 
档案分类： 专利权 
分 类 号： 第C09D145/00;C09D135/00;C08F234/02;C08F232/08;C08F222/40;C08F220/40;G02B1/111类
授权状态： 已授权
档案内容： 本发明公开了一种深紫外光刻用底部抗反射涂层及其制备方法和应用。本发明公开的底部抗反射涂层由下述组合物制得,所述的组合物包括聚合物、溶剂和光酸产生剂；其中,所述聚合物由下述方法制得,其包括下列步骤：(1)将溶剂I预热；(2)将如式(A)所示的单体、如式(B)所示的单体、如式(C)所示的单体、如式(L)所示的交联剂、引发剂和溶剂II混合,得一混合液；(3)将混合液加入到预热的溶剂中进行聚合反应；其中,步骤(1)和步骤(2)不分先后。本发明制备方法制备得到的底部抗反射涂层能够降低反射率,在底部抗反射涂层旋涂光致抗蚀剂后,未观察到由底部抗反射涂层形成的浮渣。
附件下载：  (原始资料备查)

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