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专利信息

一种真空高速率沉积旋转圆柱电弧镀膜源系统【异议或纠错】

档案编号： CQ-068-3565-6795
档案文号：
专利权人： 申请人 
发布时间： 发布时间 
档案分类： 专利权 
分 类 号： 第C23C14/35类
授权状态： 已授权
档案内容： 本发明提供一种真空高速率沉积旋转圆柱电弧镀膜源系统,包括旋转圆柱靶装置,引弧装置,可活动遮罩装置,主体与电控装置和匀气装置；旋转圆柱靶装置包括处于中间的磁轴和靶材；磁轴包括固定轴、固定压紧块、调节螺母座、固定螺杆、导磁板、磁棒、连接轴套、支撑块、转动连接头一、转动连接头二和导磁遮罩；引弧装置包括钨极、连接块、加长杆、主轴、防镀遮罩、压板、筒座、绝缘垫、导向轴、弹簧压块、绝缘压块、气缸、气缸固定座和接线端头；可活动遮罩装置包括固定遮罩、右侧活动遮罩、左侧活动遮罩、无油衬套；该设计优化镀膜源系统结构,安装拆卸快捷,引弧更加高效,合理磁场及导磁设计,放电稳定,提高靶材利用率,从而提升成膜质量。
附件下载：  (原始资料备查)

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