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一种电镀溶液循环溢流结构【异议或纠错】

档案编号: CQ-099-4281-6319
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第C25D21/06;C25D21/18;C25D17/00类
授权状态: 已授权
档案内容: 本实用新型涉及电镀技术领域,且公开了一种电镀溶液循环溢流结构,包括电镀池本体,电镀池本体两端均开设有多个呈线性排列的用于电镀液出液的溢流口,且电镀池本体底部内壁设置有用于回流的回流喷头,电镀池本体内壁上设置有用于对溢流口和回流喷头内电镀液循环的循环机构,循环机构内设置有进水管、水泵和出水管。本实用新型,通过设置的溢流口,溢流口呈线性排列均匀设置在电镀池本体两侧,这样每一个工位、每一桶料距离溢流口的距离都相同,循环情况相同,各个工位的溶液就能保证很高的一致性,产品更加均一,溢流口更长、分布在左右两侧,没有了金属阳极的阻挡,溢流速度更快,循环更加充分,温度、浓度控制更加精准,溶液均一性更好。
附件下载:  (原始资料备查)

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