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一种磁控等离子体射流装置【异议或纠错】

档案编号: CQ-104-1308-5743
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第H05H1/26;H05H1/40类
授权状态: 已授权
档案内容: 本申请公开了一种磁控等离子体射流装置,包括:壳体(1),管状结构,具有相对的两端,基于其一端向内设置有第一磁环(3),且基于所述壳体(1)间隔设置有第二磁环(41)、第三磁环(42)、高压电极环(5)、接地电极环(6);高压电极(2),从所述壳体(1)的一端伸入所述壳体(1)内的预电离腔(71)中,所述高压电极(2)为管状结构,以实现基于所述高压电极(2)作为通气管引入工作气体;电离腔(72),设置在壳体(1)内、且至少部分位于所述高压电极环(5)和所述接地电极环(6)之间,与所述预电离腔(71)联通,以将预电离后的等离子体与空气混合并进行电离。本申请实施例在装置中设计了预电离区和电离区,实现分级电离,满足射流中活性粒子的含量指标要求。
附件下载:  (原始资料备查)

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