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一种通孔薄膜陶瓷基板的表面处理工艺【异议或纠错】

档案编号: CQ-252-9482-1981
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第H01L21/48类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明涉及半导体技术领域,具体是一种通孔薄膜陶瓷基板的表面处理工艺。本发明通过对陶瓷基板依次进行瓷片激光冲孔图形、研磨处理+退火+超声清洗处理、磁控溅射金属层、电镀加厚,制备得到成品。本发明通过使用一种通孔薄膜陶瓷基板的表面处理工艺,有效降低了激光冲孔所引起的孔口披锋、孔壁瓷渣和表面熔渣等问题,从而减少基板金属化结合力异常的情况,提高了通孔薄膜陶瓷基板的良品率。
附件下载:  (原始资料备查)

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