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碳化硅晶片单面清洗机和碳化硅晶片的清洗方法【异议或纠错】

档案编号: CQ-268-3353-8488
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第B08B3/02;B08B3/10;B08B3/14;B08B13/00类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明涉及碳化硅晶片单面清洗机和碳化硅晶片的清洗方法,包括清洗槽、旋转盘、布垫、清洗流体喷射机构,清洗流体喷射机构包括混合箱、倒圆台形过渡管、喷头。所述碳化硅晶片单面清洗机即可通入单流体进行喷淋清洗,也可采用二流体对脱胶清洗后的碳化硅晶片进行单面清洗,尤其是对8英寸及其以上的大面积碳化硅晶片的清洗,清洗效果好,清洗效率高。本发明所述碳化硅晶片的清洗方法通过对脱胶清洗后的碳化硅晶片采用所述碳化硅晶片单面清洗机进行单面清洗,整个清洗过程,无需频换更换清洗液的种类,只需要采用由氢氟酸、白钨酸所特制成的清洗液,一直进行清洗,最终即可达到高洁净度的晶片表面洁净度要求,清洗工序简单。
附件下载:  (原始资料备查)

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