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一种金属光栅制作方法及金属光栅【异议或纠错】

档案编号: CQ-279-2390-2372
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第G02B5/18类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明提供了一种金属光栅制作方法及金属光栅。该方法,包括:在衬底上依次形成金属层、旋涂碳层、第一介质层、SiARC层以及光刻胶层;利用DUV光刻机进行曝光后进行显影,使光刻胶层包含有预设线宽的光刻胶,对SiARC层和第一介质层进行刻蚀,使SiARC层包含有预设线宽的SiARC,并使第一介质层包含有预设线宽的第一介质;刻蚀掉SiARC,使旋涂碳层包含有预设线宽的旋涂碳,在第一介质和旋涂碳的表面生长预设厚度的第二介质,刻蚀掉第一介质并刻蚀掉第二介质距离金属层大于旋涂碳层的厚度的部分;刻蚀掉旋涂碳,刻蚀金属层,使金属层包含有预设线宽的金属,去除第二介质,得到预设周期的金属光栅。本发明的方法,可以提高周期小于100nm的光栅的制作效率,减少制作成本。
附件下载:  (原始资料备查)

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