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波导器件及其形成方法【异议或纠错】

档案编号: CQ-316-9061-1521
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第G02B6/136类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明涉及一种波导器件及其形成方法。所述波导器件的形成方法包括如下步骤:提供一具有波导芯层的衬底;形成图案化的掩膜层于所述波导芯层表面,所述图案化的掩膜层包括多个子掩膜以及位于相邻所述子掩膜之间的开口;进行多次如下循环步骤,形成多个波导结构,所述循环步骤包括:选择一子掩膜作为目标子掩膜;遮蔽除所述目标子掩膜之外的其他所述子掩膜、并沿与所述目标子掩膜相邻的所述开口刻蚀,形成一波导结构。本发明有利于稳定波导的侧壁形貌,降低波导的传输损耗,同时有利于控制脊型波导的刻蚀深度,得到稳定的光栅、调制器和探测器结构。
附件下载:  (原始资料备查)

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