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股份有限公司(非上市、自然人投资或控股) 成立历史第27 

一种降低多晶硅铸锭底部氧含量的方法【异议或纠错】

档案编号: CQ-444-8957-2125
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第C30B28/06;C30B29/06;B05D1/02;B05D3/02类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明公开了一种降低多晶硅铸锭底部氧含量的方法,包括步骤:一、坩埚底部涂层制备,过程如下:101、涂层喷涂液配制:将有机胶结剂、去离子水和氮化硼按1∶2~2.5∶0.8~1.2的质量比均匀混合,得到涂层喷涂液;102、喷涂:采用喷涂设备将涂层喷涂液均匀喷涂至坩埚的内部底面上;103、烘干:采用烘干设备且对喷涂至坩埚内部底面上的涂层喷涂液进行烘干,获得底部涂层;二、多晶硅铸锭:利用带底部涂层的坩埚进行多晶硅铸锭。本发明方法步骤简单、设计合理且实现简便、使用效果好,通过在坩埚底部涂覆一层以氮化硼为主要原料的底部涂层,能有效降低坩埚底部氧含量,并能有效减少铸锭成品的硬质点,提高铸锭成品的质量。
附件下载:  (原始资料备查)

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