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一种制备厚膜光刻胶树脂的方法【异议或纠错】

档案编号: CQ-059-6499-8080
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第C08F8/00;C08F212/14;C08F212/08;C08F220/06;C08F220/18;G03F7/004类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明涉及一种制备厚膜光刻胶树脂的方法。具体地,本发明涉及一种无规共聚物的制备方法,所述无规共聚物包含式Ia’和Ic所示结构单元;所述制备方法包括如下步骤:将包含式Ia和Ic所示结构单元的无规共聚物前体与式II所示化合物在三氟乙酸的存在下进行反应,得到所述无规共聚物;本发明的无规共聚物的制备方法具有以下一个或多个优点:可以用于在不稳定基团存在的情况下引入缩醛基;得到的产物转换率高且稳定;反应收率高;反应可以在常温条件下进行。
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