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一种晶圆边缘双喷头快速去除光阻方法【异议或纠错】

档案编号: CQ-112-4754-7045
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第G03F7/16类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明公开了一种晶圆边缘双喷头快速去除光阻方法,属于光刻制程工艺技术领域。该方法是利用双喷头涂胶装置进行;所述双喷头涂胶装置的旋转基座上放置晶圆,EBR(边缘清洗)喷嘴设于晶圆上方,EBR喷嘴为两个并固定于喷嘴基座上,喷嘴基座连接喷嘴支撑臂,由喷嘴支撑臂带动EBR喷嘴沿晶圆径向移动。所述快速去除光阻方法为:晶圆进行高速旋转;EBR喷嘴在晶圆上POS3与晶圆上POS2之间往复高速移动,进行快速的洗边工艺;洗边工艺结束后,喷嘴移动至POS1位置并关液,将晶圆进行高速甩干EBR残余液体。该方法能够解决现有EBR技术存在的清洗效率低、清洗时间长、清洗容易存在光阻残留、对于厚胶清洗效果不佳的问题。
附件下载:  (原始资料备查)

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