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一种改善均匀性的光刻胶涂胶方法【异议或纠错】

档案编号: CQ-120-5588-8696
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第B05D1/00;B05C13/02;B05C5/02;B05C11/10;B05C11/08类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明提出了一种改善晶圆上光阻涂布均匀性的方法,在光刻胶涂胶时,涂胶步骤中,1500-3500rpm/min时的打胶时间设置要小于胶泵总打胶时间(根据粘度不同,通过实验调整时间配比,占打胶时间百分之85%-95%,随光刻胶粘度增加适当降低打胶时间),进而留下一部分打胶时间在其下一步骤打出光刻胶,然后再以1000-3500rpm/min的转速旋转一定时间成膜。提高光刻胶膜厚的均匀性。
附件下载:  (原始资料备查)

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