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光学超构表面器件及其设计方法和制造方法【异议或纠错】

档案编号: CQ-117-4354-0400
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第G02B1/00;G02B27/00类
授权状态: 已授权
档案内容: 一种光学超构表面器件的设计方法,光学超构表面器件包括衬底和衬底上的周期性排列的多个超构结构单元,该方法包括:获取表示相应超构结构单元的单元图案,单元图案包括具有多个像素的像素阵列,每一个像素具有第一状态或第二状态;响应于确定超构结构单元的透射性能不满足预设条件,循环执行以下操作:确定多个像素各自的权值;基于权值,随机翻转多个像素中的一组一个或多个像素的状态以得到当前单元图案;并且基于对当前单元图案所表示的超构结构单元的光学仿真,选择性地维持多个像素各自的状态或将一组一个或多个像素的状态恢复为翻转之前的状态;响应于确定超构结构单元的透射性能满足预设条件,生成定义光学超构表面器件的描述信息。
附件下载:  (原始资料备查)

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