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待测物表面高度的测量方法、光谱共焦测量系统及设备【异议或纠错】

档案编号: CQ-271-6719-5658
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第G01B11/06;G01B11/24;G01J3/28;H04N25/10;H04N25/71类
授权状态: 已授权
档案内容: 本申请属于三维测量领域,具体公开了一种待测物表面高度的测量方法、光谱共焦测量系统及设备,方法包括:发射面入射光,所述面入射光先后经过分光元件和色散聚焦组件后,不同波长的光聚焦在待测物表面的不同高度,所述分光组件与所述色散聚焦组件同轴设置;从所述待测物表面反射的反射光经过所述分光元件反射后,多个不同波段的光分别成像在不同的面阵CCD上,从而获得所述待测物表面不同位置的反射光强,不同的面阵CCD对不同波段的光进行成像;根据多个面阵CCD获得的所述待测物表面不同位置的反射光强,得到所述待测物表面不同位置的高度信息。通过本申请,能够实现宽量程、高效率以及高精度的检测。
附件下载:  (原始资料备查)

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