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MOCVD反应腔室清扫装置及其清扫方法【异议或纠错】

档案编号: CQ-600-5672-5504
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第C23C16/44;C30B25/02;B08B1/04类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明提供一种应用于MOCVD技术领域的MOCVD反应腔室清扫装置,本发明还涉及一种MOCVD反应腔室清扫方法,所述的MOCVD反应腔室清扫装置的所述的MOCVD反应腔室清扫装置的承载盘(1)上部设置擦拭部件Ⅰ(2),承载盘(1)下部通过合页(6)与清理手臂(3)的支撑部件(4)下部铰接,承载盘(1)侧面设置凹槽(7),凹槽(7)的凹槽表面(8)与水平面呈锐角夹角结构,所述的承载盘(1)底部设置卡槽(9),腔室本体(10)下部内表面设置旋转升降部件(11),本发明所述的MOCVD反应腔室清扫装置及清扫方法,在不打开反应腔室情况下,对反应腔室侧壁和顶盖上的副产物进行清理,确保反应腔室清理时清理干净彻底,不会损坏反应腔室。
附件下载:  (原始资料备查)

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