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一种用于超临界清洗的湿法设备及其工作方法【异议或纠错】

档案编号: CQ-638-8010-2839
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第H01L21/67;H01L21/677类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明公开了一种用于超临界清洗的湿法设备及其工作方法,其中,湿法设备包括:存放机构,存放机构内放置有晶圆片;第一传输机构,第一传输机构设置于存放机构的一侧;清洗模组,清洗模组设置于第一传输机构远离存放机构的一侧;干燥模组,干燥模组设置于第一传输机构远离存放机构的一侧,干燥模组和清洗模组相正对设置;第二传输机构,第二传输架构设置于清洗模组与干燥模组之间,且第二传输机构的一端靠近第一传输机构设置。通过对本发明的应用,提供了一种可以稳定高效对晶圆片进行清洗干燥的设备,利用该设备可以实现与晶圆清洗的湿法工艺的结合,确保晶圆在转运过程中的稳定和高效,进一步提高了晶圆的生产效率,保障了晶圆的清洗干燥质量。
附件下载:  (原始资料备查)

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