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专利信息

一种晶圆风险曝光区域的识别方法、系统和存储介质【异议或纠错】

档案编号： CQ-099-4471-6010
档案文号：
专利权人： 申请人 
发布时间： 发布时间 
档案分类： 专利权 
分 类 号： 第G06T7/00;G06T7/62;G06T7/66;G06T7/77;G06T7/13;G03F7/20类
授权状态： 已授权
档案内容： 本申请涉及一种晶圆风险曝光区域的识别方法、系统和存储介质,所述方法包括：获取曝光设备上光照区域的尺寸信息和待曝光的晶圆半径；确认所述光照区域的第一中心坐标和所述晶圆的第二中心坐标,获取所述第一中心坐标到所述第二中心坐标的偏移量；获取所述光照区域中曝光区域的所有角点坐标；基于所述光照区域的尺寸信息、所述晶圆半径、所述偏移量、所述角点坐标计算每一个角点的据边,所述据边为所述角点到所述晶圆的边缘的距离；根据所述角点的据边确认所述曝光区域的种类,并确认所述晶圆上风险曝光区域的数量,其中所述曝光区域的种类包括风险曝光区域和无风险曝光区域。本申请可以识别晶圆上的风险曝光区域,以提升晶圆加工的成品率。
附件下载：  (原始资料备查)

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