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用于浸没式光刻具有调节出水总有机碳的超纯水制备装置【异议或纠错】

档案编号: CQ-101-4567-5377
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第C02F9/00;C02F101/30;C02F103/04;C02F1/78;C02F1/00;C02F1/20;C02F1/32类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明涉及用于浸没式光刻具有调节出水总有机碳的超纯水制备装置。本发明包括电子级厂务水水箱、总控纯水泵、流量控制计、总有机碳去除模块、脱气模块、其他杂质处理模块、检测模块隔膜阀、杂质检测模块、排水隔膜阀、用水隔膜阀、回水流量计和第一止回阀。本发明通过在总有机碳去除模块中臭氧发生器产生高纯度臭氧,在不对超纯水进行外加污染的情况下,利用臭氧极强的氧化性将总有机碳去除。采用两级回水,净水效率高。使用寿命长,成本低。本装置制备的超纯水水质的稳定,且装置占地面积小。采用本装置能够有效降低超纯水中各种有机碳含量,并且在不引入新杂质的基础上,到达浸没式光刻用超纯水总有机碳的要求。
附件下载:  (原始资料备查)

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