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一种浸没流场初始建立方法【异议或纠错】

档案编号: CQ-103-8022-1435
档案文号:
专利权人: 申请人 
发布时间: 发布时间 
档案分类: 专利权 
分 类 号: 第G03F7/20类
授权状态: 已授权
档案内容: 本发明涉及一种浸液供给系统及浸没流场初始建立方法。本发明第一流路包括浸液纯化组件,浸液纯化组件能够提高浸液的纯净度;第二流路包括供液阀,供液阀控制是否向浸液供给回收装置供给浸液;第三流路包括旁路阀,旁路阀控制第三流路的通断;还包括浸液流动调节组件,能够使浸液的流动参数趋向于曝光要求范围。本发明能够使浸液的纯净度和流动参数趋近于光刻机的曝光要求范围;减少浸液中污染物对浸液供给系统中部件的污染;避免污染物进入浸没流场甚至附着在浸没流场的壁面上,加快浸没流场的初始建立过程,提高浸没流场的初始建立过程的消除污染物的可靠性,有利于提升光刻机的效率和保证曝光质量。
附件下载:  (原始资料备查)

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